ANALYTICAL CHEMISTRY & TESTING SERVICES ALS LULEÅ RIGHT SOLUTIONS..RIGHT PARTNER
masr1 HEMMA HOS ALS LULEÅ
Bild 2 masr1 Martin.stener; 2009-11-23
SOMLIGA GÅR G R MED SMUTSIGA SKOR Första våning
SOMLIGA GÅR G R MED SMUTSIGA SKOR Första våning
SOMLIGA GÅR G R MED SMUTSIGA SKOR Inte första våning!
Labbets layout HEMMA HOS ALS LULEÅ Malning Torkning
SMUTSIGA OPERATIONER Första våning Torkning (o.s.v.) Malning
Labbets layout HEMMA HOS ALS LULEÅ Invägning Lakning, uppslutning
Andra våning RENARE OPERATIONER Nymalda, torkade prov
Andra våning Invägning RENARE OPERATIONER
Andra våning RENARE OPERATIONER Lakning, uppslutning Mikrovågsugnar Autoklav
Mikrovågskärl RENARE OPERATIONER
HITTA GEMENSAMMA NÄMNAREN
HITTA GEMENSAMMA NÄMNAREN Stibnit Spetsglans
HITTA GEMENSAMMA NÄMNAREN Stibnit Spetsglans Antimonit Antimonglans Sb 2 S 3
Vad spelar en mascara partikel för roll? Vad spelar en mascara partikel för roll? 10 μg partikel innehåller upp till 10% Sb! 1 μg Sb + 1 g jordprov = 1 μg/g Sb!!
För prover av jord, förorenade med metaller, bör i första hand väljas SS 02 81 83 (1986), dvs extraktion i autoklav (120 o C) med 7 M HNO 3 i 30 minuter. Det kan Metoderna d och e används särskilt för kvicksilver och c är särskilt lämpad för metallerna As, Se, Sb, Hg och Sn. Metoderna för atomabsorption beskrivs närmare i
ANTIMON MED ICP AES SS 02 81 83 RTC Certifikat 0 1 2 3 Sb konc (mg/kg)
U.S. EPA METOD 3051A http://www.epa.gov/epawaste/hazard/testmethods/sw846/pdfs/3051a.pdf
U.S. EPA METOD 3051A Omvänt kungsvatten Omvänt aqua regia http://www.epa.gov/epawaste/hazard/testmethods/sw846/pdfs/3051a.pdf
ANTIMON MED ICP AES SS 02 81 83 H 2 O + HNO 3 : 1 + 1 EPA 3051a HCl + HNO 3 : 1 + 3 EN 11466 HCl + HNO 3 : 3 + 1 ASTM HCl + HNO 3 + HF : 1 + 3 + 1 RTC Certifikat 0 1 2 3 Sb konc (mg/kg)
OMVÄNT KUNGSVATTEN MOT HNO3
Labbets layout HEMMA HOS ALS LULEÅ Preparering av vattenprover Analys
Tredjevåning (festvåning) HÖGRENA OPERATIONER
Tredjevåning HÖGRENA OPERATIONER
Tredjevåning HÖGRENA OPERATIONER Damm nedfall uppmätt 1998: 3000 pg cm 2 h 1 Damm nedfall uppmätt 2006 (HEPA filtrerad luft): 20 pg cm 2 h 1
ICP AES ICP INSTRUMENT INSTRUMENT ICP SFMS
ICP AES Li Na Mg Fe
ICP AES Mo V Ti Gd
ICP AES Vad är det här för element?
ICP AES Vad är det här för element? Ti
ICP AES Nr. Beskrivning Data behandling Nr. Beskrivning Data behandling 1 Tvätt blank 19 Kal Si 500 mg/l Spektrala korrigeringar 2 Kalibreringsblank Kalibrering 20 Kal Mg 200 mg/l Spektrala korrigeringar 3 Kal Std 1 Kalibrering 21 Kal Mn 100 mg/l Spektrala korrigeringar 4 Kal Std 2 Kalibrering 22 Kal Cu 100 mg/l Spektrala korrigeringar 5 Kal Std 3 Kalibrering 23 Kal Ti 10 mg/l Spektrala korrigeringar 6 Kal Std 4 Kalibrering 24 Kal Cr 50 mg/l Spektrala korrigeringar 7 Kal Std 5 Kalibrering 25 Kal As 10 mg/l Spektrala korrigeringar 8 Kal Std 6 Kalibrering 26 Kal V 10 mg/l Spektrala korrigeringar 9 Kal Std 7 Kalibrering 27 Kal Zn 100 mg/l Spektrala korrigeringar 10 Kal Std 8 Kalibrering 28 IPC 1 Drift kontroll 11 Kal Std 9 Kalibrering 29 IPC 2 Drift kontroll 12 Kal Std 10 Kalibrering 30 IPC 3 Drift kontroll 13 Kal Std 11 Kalibrering 31 QCS 1 Kontroll kort 14 Kal Vinsyra 5 g/l Spektrala korrigeringar 32 QCS 2 Kontroll kort 15 Kal IBLK Tvätt 33 QCS 3 Kontroll kort 16 Kal Al 1000 mg/l Spektrala korrigeringar 34 IBLK Blank check 17 Kal Fe 1000 mg/l Spektrala korrigeringar 35 Prepareringsblank Kontroll kort 18 Kal Ca 1000 mg/l Spektrala korrigeringar 36 Referensmaterial Kontroll kort
EFFEKT AV UPPLÖSNING I ICP MS Låg upplösning 20000 16000 Intensitet (cps) 12000 8000 4000 0 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 m/z 1 μg/l As i0,1 M HCl
EFFEKT AV UPPLÖSNING I ICP MS Låg upplösning Hög upplösning 20000 16000 16000 12000 Intensitet (cps) 12000 8000 Intensitet (cps) 8000 4000 4000 0 0 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 m/z 1 μg/l As i0,1 M HCl m/z
EFFEKT AV UPPLÖSNING I ICP MS Låg upplösning Hög upplösning 20000 16000 16000 12000 Intensitet (cps) 12000 8000 Intensitet (cps) 8000 4000 4000 0 0 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 74.90 74.91 74.92 74.93 74.94 74.95 m/z 1 μg/l As i0,1 M HCl m/z
EFFEKT AV UPPLÖSNING I ICP MS Låg upplösning Hög upplösning 20000 16000 16000 12000 40 Ar 35 Cl + Intensitet (cps) 12000 8000 Intensitet (cps) 8000 4000 4000 75 As + 0 74.4 74.6 74.8 75.0 75.2 75.4 75.6 0 74.90 74.91 74.92 74.93 74.94 74.95 m/z 1 μg/l As i0,1 M HCl m/z
HÖG UPPL G UPPLÖSNING SNING 0 200000 400000 600000 800000 1000000 1200000 62.888 62.897 62.906 62.915 62.924 62.932 62.941 62.950 62.959 62.968 Cu63x1 0 2000 4000 6000 8000 10000 12000 62.888 62.896 62.905 62.913 62.921 62.929 62.938 62.947 62.955 62.963 Cu63x100 0 500 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 4500 64.885 64.893 64.902 64.911 64.919 64.928 64.937 64.945 64.954 64.963 Cu65x1 0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 64.885 64.893 64.902 64.911 64.919 64.928 64.937 64.945 64.954 64.963 Cu65*10
SAMMANFATTNING Metallanalys med ICP instrument hos oss ICP SFMS och bara ICP SFMS
SAMMANFATTNING Metallanalys med ICP instrument hos oss ICP SFMS och bara ICP SFMS ICP AES efter ordentligt kalibrering
SAMMANFATTNING Metallanalys med ICP instrument hos oss ICP SFMS och bara ICP SFMS ICP AES efter ordentligt kalibrering Rena och snygga lokaler
SAMMANFATTNING Metallanalys med ICP instrument hos oss ICP SFMS och bara ICP SFMS ICP AES efter ordentligt kalibrering Rena och snygga lokaler Rena och snygga medarbetare